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除此之外，得奥由于gDNA和氧化石墨烯之间的较强的结合作用，使得还原产物更容易在gDNA-GO复合材料中迁移，从而提高了电子导电性和耐腐蚀性。由此就可以看出Ptn/gDNA-GO复合物优异的环境和酸碱度稳定性是由于gDNA与紧密链接的氧化石墨烯片之间的多个非共价键作用，奖美包括gDNA碱基与氧化石墨烯片之间石墨化结构域的π-π键作用，奖美以及gDNA胺基上的氢键与氧化石墨烯片上含氧官能团之间的相互作用。
N2饱和条件下的电化学活性比表面积(EASA)是通过测量校正后双层Hupd吸附/解吸区所收集的电荷计算得到，国法其0.21mCcm-2的电荷常量是假设在多晶硅Pt电极上单层H2氧化的电荷量。俗话说，律说是骡子是马，拉出来溜溜才知道。 所以，样走后是时候展现真正的技术了。
然而，得奥Ptn/gDNA-GO复合物的电化学比表面积却高达149m2 g-1，是氢吸附/脱附实验估算值的两倍之多。哎，奖美此时作者心中闪过一个念头，奖美这四种碱基的功能这么强大，说不定在其他方面也有很大的妙处喔~这不，在Nature子刊NatureCommunication上拉斯维加斯内华达大学的KwangJ.Kim教授就发表了一篇具有高效ORR活性的DNA-氧化石墨烯催化剂的Article。
风马牛不相及的DNA与氧化石墨烯如何能搭配到一起并产生有趣的化学反应促进氧气的还原呢？小编决定好好研读这篇论文，国法看作者如何打破陈规，国法创造不一样的世界。
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